Open Access Article
International Journal of Mechanical Engineering. 2022; 1: (3) ; 78-81 ; DOI: 10.12208/j.ijme.20220041.
Optimization of wafer clamp with ICP etching Equipment
ICP刻蚀机晶圆夹具寿命优化
作者：
吴海 *,
王露寒,
王峻澎
中国电子科技集团公司第十三研究所 河北石家庄
*通讯作者：
吴海,单位：中国电子科技集团公司第十三研究所 河北石家庄；
发布时间: 2022-10-24 总浏览量: 586
PDF 全文下载
引用本文
万方数据（WANFANG DATA）
摘要
通过分析电感耦合等离子刻蚀系统在刻蚀晶圆的过程中晶圆夹具的重要性和夹具的运动过程和作用，提出了石英和陶瓷两种材料制作的夹具在实际使用过程中的差异和优缺点以及陶瓷夹具对降低设备故障率的作用。
关键词： 等离子；刻蚀；晶圆夹具；陶瓷
Abstract
Through analyzing the importance of wafer clamp with inductive couple plasma etching system during etching process,and action process and fcuntion with wafer clamp,the differences or merits and demerits about wafer clamps those are made of quartz and ceramics in the actual use are proposed,as well as equipment failure rate can be greatly reduced.
Key words： plasma; etch; wafer clamp; ceramics
参考文献 References
[1] 郑志霞，冯建勇，张春权.ICP刻蚀技术研究[J]厦门大学学报(自然科学版)，2004，43（8）：365-368
[2] 贾英茜，李莉，荣旭巍.ICP刻蚀技术及其在MEMS中的应用.科技风杂志，2014,9:76-76
引用本文
吴海, 王露寒, 王峻澎, ICP刻蚀机晶圆夹具寿命优化[J]. 国际机械工程, 2022; 1: (3) : 78-81.